射陽星宇探傷設備有限公司
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CEW---4000A微機控制交直流熒光磁粉探傷機設計制造及驗收標準：符合國家JB/T8290—1998《磁粉探傷機》標準及美國ASTM標準
CEW---4000A微機控制交直流熒光磁粉探傷機
設計制造及驗收標準：
符合國 家JB/T8290—1998《磁粉探傷機》標準及美國ASTM標準。
磁化原理及設備性能
主要技術參數：
周向磁化電流：AC 0-4000A（有效值）連續可調,帶斷電相位控制；
縱向磁化磁勢：DC 0-24000AT（平均值）連續可調；
磁化原理：周向直接通電法、縱向線圈感應法；
磁化方式：周向、縱向、復合磁化三種；
電極間距：0-1200mm；
磁化線圈：內徑300 mm，適合探傷工件直徑250 mm以內；
夾緊行程：氣缸50 mm；
夾緊方式：氣動夾緊，氣壓0.4—0.8Mpa可調，（氣源用戶自備）；
退磁方式：自動退磁；
退磁效果：退磁后工件上剩磁小于160A/m（2GS）；
探傷靈敏度：按中華人民共和國機械行業標準JB/T6065—92《磁粉探傷用標準試片》規定，工件表面用 A型2號（15/50）試片貼面，清晰顯示；
紫外線強度：100瓦或400瓦黒光燈距工件380mm處,照度大于或等1000uW/cm2；
轉動速度：每分鐘4—6轉；
電源：三相四線，380V±10%，50HZ，約250千伏安。
工藝流程
該設備的工藝流程為，人工將工件放在工件架上，夾緊、旋轉、噴灑、磁化、旋轉觀察、退磁、松開、下料。
其工藝流程圖如下：
人工上料——夾緊一—旋轉一—噴灑——磁化——旋轉觀察一—松開——退磁——下料
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